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福建师范大学“光谱型椭圆偏振仪”公开招标项目

实验室设备

用于测量单层或多层薄膜厚度d；单层或多层薄膜各层光学常数的测量，如折射率n 及消光系数k；反射率及透射率的测量；光学带宽的测量；同时分析不同温度和不同波长对样品光学系数的影响。能实时获取纳米薄膜的表面或界面信息和纪录快速动力学过程的测量和显示技术，它具有物理意义直观、分辨率高、检测速度快。

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1.0 主机技术要求<br>1.1 波长范围：245nm～1000nm，光谱分辨率优于2nm。（波长范围需要满足金属、半导体、聚合物薄膜材料的测量）<br>波长分辨率：1.6nm；线宽：5nm；<br>1.2 入射角范围：75°或入射角在45°到90°手动/自动连续可调（入射角范围需要满足以Si、玻璃和ITO玻璃作为基体的测量）。<br>入射光角度准确度：± 0.2°<br>入射光角度重复性：± 0.005°<br>1.3 基座：所有的基座包含3轴样品对准，X、Y(俯仰)分辨率: 0.001°，Z(高度)分辨率: 5 μm<br>1.4 样品加热器：在升温条件下测量样品。加热台用光学玻璃封闭，包含温度控制器和内建于样品腔室内的测温热电偶，温度: 室温～200℃（满足样品折射率等光学参数随温度变化的曲线测量）。<br>2.0 主机性能要求<br>2.1 测量时间：测量整个光谱范围10秒钟以内(测量整个仪器标称光谱范围，分辨率优于2nm）。<br>2.2 光束直径：2mm～5mm<br>2.3 光速发散度：<0.3°<br>2.4 椭偏量参数测量范围：Δ（0～360°）；Ψ（0～90°）；无死区。<br>2.5 测量准确度：95%以上的被测点满足 Δ≤0°±0.05°；Ψ≤45°±0.075°（直射状态下测量空气）；<br>2.6 测量重复性：直射状态下测量空气30次，每次测量平均时间为10秒，δΨ = 0.015°，δΔ = 0.015°；折射率测量的重复性优于0.002；膜厚测量的重复性优于0.02&Aring;（30次SiO2厚度测量的标准偏差，样品为带有自然氧化层的硅片）；<br>2.7 样品尺寸：10×10mm～150×150mm，满足薄膜样品厚度1nm～5 μm的测量，同时满足10nm以下超薄膜的测量；<br>2.8 能够测量LB制膜机制备的交替超薄膜中每一种薄膜的折射率等光学参数和厚度。<br>3.0 样品台<br>3.1 所有的样品台包含3轴样品对准，X, Y, Z可精密调节；<br>3.2 X、Y (俯仰)分辨率：0.001°；<br>3.3 Z (高度)分辨率：5 μm；<br>4.0 软件要求<br>4.1 样品自动对焦；<br>4.2 自动调零和分析，无需任何手工操作；<br>4.3 基于Windows XP系统，操作方便，图形界面；<br>4.4 材料库全、色散模型多、功能强；<br>4.4 提供软件语言接口，预设多种标准测量模式，由用户自定义测量方法，实现简单一键操作功能；<br>4.6 软件同时满足用于在线测试和分析数据以及离线分析数据；<br>5.0 计算机<br>CPU：≥PIV(HT) 2.8GHz / 内存：≥ 1 GB / 硬盘：≥120 GB / 显示器： 17寸彩色液晶显示器，最小显示范围：800×640 pixels / 显卡：独立，显存≥64MB / 光驱： CD-RW可擦写光驱 / 100M网卡，56K Modem，3D鼠标 / 含USB口<br>6.0 备件：提供2套备用灯，提供各种尺寸的片基（硅晶片、玻璃及ITO）等耗材，工具包。<br>投标方在报价时所提供的产品不得低于采购文件中的技术规格和要求，可在“货物说明一览表”中介绍相应设备的技术升级或延伸功能。<br>

福建师范大学

83465376

福州市仓山区上三路8号