计、中央控制单元、膜厚仪、金属加热电源、有机蒸发电源、分子泵电源、总电源等部分组成 。3.2PLC+触摸屏 一套由韩国LG-PLC,北京昆仑通泰的10寸彩屏组成。并安装完毕控制软件。手动控制时要注意操作顺序。控制内容：预抽，前级，机械泵，分子泵运行。样品台旋转控制，按钮控制。设备报警与急停。3.3数 查看详情>>
状蒸发源,石英晶振膜厚仪1套(监测薄膜成长速度0.1～9999.9?.S-1和厚度1～9999?)；5.三工位惰性气体手套箱(Etelux/ MBRAUN),手套箱有气体净化功能，实现H2O和O2残留量小于1ppm，漏率小于<10-5mbar.l/s6.真空蒸发镀膜与手套箱并联。质保及售后服务 查看详情>>
本价及时提供。1.膜厚仪探头接口从腔室预留CF35法兰引入；晶振探头安装在靠近基片台附近，用以实时监测镀膜速率和终厚，精度可达±1（0.1nm）。具备与电源联锁控制功能，若镀膜达到设置厚度，可自动切断电源，停止镀膜，实现自控膜厚之目的。2.标准INFICON SQC-310,配备两个石英晶体传感器; 查看详情>>
本价及时提供。1.膜厚仪探头接口从腔室预留CF35法兰引入；晶振探头安装在靠近基片台附近，用以实时监测镀膜速率和终厚，精度可达±1（0.1nm）。具备与电源联锁控制功能，若镀膜达到设置厚度，可自动切断电源，停止镀膜，实现自控膜厚之目的。2.标准INFICON SQC-310,配备两个石英晶体传感器; 查看详情>>
：0.5个199.膜厚仪技术参数：6.基体：Fe/NFe7.探头形式：一体8.显示：LCD数字显示9.测量范围：Fe：0-3000μmNFe：0-2000μm10.测量精度：0-50μm≤±1μm，50-1000μm≤±1.5%，1000-2000μm≤±2%，2000-5000μm≤±3%11.显 查看详情>>
