全自动双沉积腔原子层沉积设备采购意向公开

概算金额（人民币，万元）：,650.00,预计交付日期：,**,采购意向需求概况：,采购意向公开,为便于供应商及时了解军队采购信息，根据《军队物资服务集中采购需求管理暂行办法》,等有关规,定，现将长沙某部的全自动双沉积腔原子层沉积设备采购意向公开如下：,预,会,采购项,初步技术,金颜,预计采,号,目名称,需求概况,参数,(,购时间,注,元),1.设备主体：,★1.1设备主腔体采用双腔（等离子腔+反应腔）热壁反应腔室,设计。反应室腔体外壁无需水冷即可保持温度低于0慑氏度（确,保接触安全),1.2通过反应腔内的加热部件同时对衬底与反应腔体壁加热，衬,底可被加热至400℃，腔壁可被加热至100℃，衬底配置额外的,高温模块可单独加热至500℃以上。,★1.3反应腔体可以用来沉积8英寸(200毫米)的衬底，兼容8,英寸以下的村底。,1.4反应腔体的密封盖通过电动升降机自动开关，同时反应腔体,与等离子腔体之间配置计算机控制的自动隔离阀（等离子体快,门)。,★1.5反应腔本底真空优于1E-2mbar(0.01hp):反应腔真,空漏率优于2E4mbar？l/s;反应腔配置薄膜电容真空计做为,压强传感器，满量程1托，分辨率0.001%满量程：,2.前驱源及管路系统：,2.,1配置的每条管路均须配置质量流量计、脉冲阀，液态源与加,全自动双沉积腔原子层沉积,热源分别配置独立的温度传感器。每条管线分别与载气连接，用,设备1套,于提高脉冲的前驱体流速并使前驱体均匀分散到衬底上；MFC,1、报价应为人民币〔含税),量程根据原子层沉积工艺确定；流速可预设。,且包括服务、售后、运输费等,2.2前驱体气体在衬底上的流动模式：气流通过Showerhead自,全部费用。,上而下流经样品表面。,2、所有产品价 (略) ,2.3设备最多可配置6条独立的前驱体源管路，分别对应反应腔体,场调价政策而调整。*方除非,上4个完全独立的前驱体源入口。,因*方需求改变或经*方同,2.4配置2套加热源系统包含源瓶、温控管路、脉冲阀门与热绝缘,器；加热源料瓶容积不小于300ml,加热温度不低于200℃,全自动,意，且不得增加任何费用。,双沉积,3、*方提供的物资质量应符,2.5配置4套常温液态源系统包含液态源瓶、管道与脉冲阀门，适,用于高蒸气压的液态前驱体。容积不小于300ml,配置手动隔离,1,腔原子,合国家标准。各项技术性能指,标必须达至到合同和技术文件规,阀。每路管路可加热到最高200℃,650,2023.8,层沉积,定的要求。,2.6配置臭氧发生器,设,4.,合同生效后，*方在12个,3.可实现远程等离子体增强功能,内完成货品运输、安装及调,3.1等离子体源须采用真远程CCP等离子体方式，等离子体不直,试,接照射于样品、防止对样品表面的损伤（包括离子轰击、紫外辐,5、提供1年免费维保：,照所造成的损伤)：且制备温度可低于100℃。等离子体源的射,6.,包装及资料全新未使用,频功率≥300W,频率13.56MHz;,7、不能公开项目采购相关信,★3.2至少2路独立的等离子体工艺气体管路，最多可扩展至7,息，包括数量及用途等，涉及,路。配置至少1路腐蚀性气体管路(NH3)、采用by-pass管路,物资的全部技术资料等未经*,设计,方同意*方不得向社会公开：,3.3为保证操作的灵活性，无需装卸等离子体发生器及相应的气,体管路就可以直接使用等离子体。软件自动控制系统进入或离开,等离子体ALD的工作模式。,4.真空泵要求：,的。AD积麦求，原装进口干泵，抽这不小于50立方米小,5.真空泵前尾气处理系统的要求：真空管路配置冷阱,Vapor trap.,6预真空系统：,配备预真空室(Load lock),提供样品基底传片装置，传片装,置须通过门阀系统与反应腔集成，以确保在不打开反应腔的情况,下进行样品的装御；预真空室配置单独的干泵、真空计，本底真,空s0.1mbar;漏率s1E-3mbar.ls;,7.,采用激光椭偏仪进行原位实时监测薄膜生长过程、膜厚的在,线测量，可对膜厚进行精确的控制。,★8.300℃下，在6英寸wafer.上，采用TMA和H2O沉积,50nmAl203,薄膜均匀性s2%(1-sigma,除去边缘,5mm)。,合计,650万,注：1.本次公开的采购意向仅作为供应商了解初步采购安排的参考，采购项目具体情况以最终发布的,采购公告和采购文件为准；,2供应商可以通过军队采购平台反馈参与意向和意见建议。,3.公示时间：从公示日起30天,4.联系人及电话：黄老师*,长沙某部,**日

,长沙