半导体光刻胶及关键材料研究和产业化项目环境影响评价信息公示一次公示
半导体光刻胶及关键材料研究和产业化项目
环境影响评价信息公示（一次公示）
根据《中华人民共和国环境影响评价法》《环境影响评价公众参与办法》（生态环境部令 第4号）的要求，现将西安彩晶 (略) 半导体光刻胶及关键材料研究和产业化项目有关环境影响评价信息向公众公开，公告内容如下：
一、建设项目基本情况
项目名称：半导体光刻胶及关键材料研究和产业化项目
建设地点：西安经济技术开发区泾渭新城渭华路北段19号
建设性质：改扩建
总投资：57756万元
建设内容：本项目占地面积50亩，新建生产工房1座、产成品库1座、原材料库1座、综合库1座、研发办公楼1座，废水站1座，新增建筑面积52806平方米（以规划部门核准面积为准），新增设备435台，项目达产后，年新增半导体光刻胶及关键材料15000吨。
现有工程及其环境保护状况：
（1）现有工程
西安彩晶 (略) 于**日取得《 (略) 环境保护局关于西安彩晶 (略) TFT液晶显示材料产业化环境影响报告书的批复》（市环发〔2012〕86号），**日，废水、废气、噪声污染防治设施进行自主竣工环保验收，固体废物污染防治设施于**日取得了《 (略) 生态环境局关于西安彩晶 (略) TFT液晶显示材料产业化（一期）项目固体废物污染防治设施验收的批复》（市环批复〔2020〕27号）；**日取得了《西安经济技术开发区管委会行政审批服务和大数据资源管理局关于西安彩晶 (略) 1-*基磷酸环酐产品技术研究及产业化项目环境影响报告表的批复》（经开行审环批复〔2020〕037号），**日，西安彩晶 (略) 1-*基磷酸环酐产品技术研究及产业化项目进行了竣工环境保护自主验收，经验收组讨论，同意通过项目竣工环境保护验收。
目前已建设1座1#合成厂房（701），1#合成装置辅助厂房（701C）、2#合成装置辅助厂房（702C）、综合楼、1#综合仓库、2#综合仓库及污水处理站、循环水泵房、循环水池、配电所等设施。
（2）环境保护状况
现有工程工艺废气主要为酸性气体、有机废气、污水处理站废气：已建设废气处理设施，酸碱废气由碱液吸收装置处理，有机废气经活性炭吸附装置处理，污水处理站废气经活性炭吸附装置处理。废气经处理后通过排气筒高空排放。
现有工程生产废水、生活污水经污水处理站处理，处理后 (略) 政污水管网，最 (略) 第八污水处理厂处理。
现有工程生产过程噪声源主要为生产设备，泵、离心机、风机等运行产生的噪声，项目主要生产及配套设备均置于相应的厂房及配套构筑物内，工程在设备选型时优选低噪声设备，并采用减振、隔声以及加强厂区绿化等措施减轻噪声对环境的影响。
现有工程生活垃圾分类收集后由环卫工人清运，过滤器由厂家回收，危废分类收集后暂存于危废库，定期交由有危废资质单位处置，已签订危废处置合同，危废库已按标准建设，做到防渗、防风、防雨、防扬撒、防晒。
现有工程已建事故池1座，并编制完成应急预案。
二、建设单位名称及联系方式
建设单位：西安彩晶 (略)
通讯地址：西安经济技术开发区泾渭新城渭华路北段19号
联系人：郭计化
联系电话：*
三、环境影响报告书编制单位的名称及联系方式
环评单位：西安 (略)
联系人：陈竞花
联系电话：*
四、公众意见表的网络链接
五、提交公众意见表的方式和途径
在该项目环境影响报告书征求意见稿编制过程中，您可以通过链接下载公众意见表，填写后通过（电话、传真）反映；或填写后将纸质版邮递至联系地址，发表对该项目建设的意见或建议。
请公众在参与调查过程中提供个人联系方式（您的个人信息未经允许不会对外公开，法律法规另有规定的除外），以便及时向您反馈信息。
建设单位：西安彩晶 (略)
**日
