桌面式原子层沉积系统采购
采购信息
| 发布时间 | 2024-05-14 | 项目编号 | 点击查看 |
| 招标预算 | 详见内容 | 资质要求 | 点击查看 |
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桌面式原子层沉积系统（JJ2024000015）采购公告
发布时间：** 15:16:01阅读量：22 次
| 项目名称 | 桌面式原子层沉积系统 | 项目编号 | JJ* |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | ** 15:16:01 | 公告截止日期 | ** 17:00:00 |
| 采购单位 | 清源创新实验室(中国福建化学工程科学与技术创新实验室) | 付款方式 | 凭初步验收材料和正式发票支付90%合同款，正常运行一年后待全部货物最终验收合格付清剩余10%合同款。 |
| 联系人 | 成交后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 成交后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 成交后7个工作日内 | 到货时间要求 | 签约后45个工作日内 |
| 预算总价 | ￥ *.00 | ||
| 发票要求 | |||
| 收货地址 | 清源创新实验室，具体以我方指定的地点为准 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
采购清单1
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 桌面式原子层沉积系统 | 1 | 套 | 真空应用设备 |
| 品牌 | 无 |
|---|---|
| 型号 | 无 |
| 预算单价 | ￥ *.00 |
| 技术参数及配置要求 | ★1. 尺寸：长550mm×宽420mm×高420mm±2%；工艺温度≥200℃；成膜不均匀性：≤±3%（不低于4英寸wafer沉积氧化钛薄膜） 2.前驱体源：配备4 个单管式50ml前驱体源，一条清扫气线；源瓶：配备4个单管式50ml前驱体源（含）4个。 3.源瓶加热器：配备1个180℃单管加热器，精度：180±1 oC。 ★4.采用抽屉式样品装载，4寸wafer ；配备粉末样品处理装置，实现晶圆及粉末式ALD，一机两用。 ★5.腔体采用真空腔体，配备高温铝腔温度≥200℃，温度控制精度≤±1 oC。 ★6.包括多组毫秒级ALD阀门，氧化管路采用双阀门设计，保证源进气量的稳定性。采用自动化加热，加热温度≥150 oC。 7.气体质量流量计：1个精确的载气流量控制，氩气最大量程200sccm；真空规：薄膜真空规，实时显示工艺压力,标准10torr电容薄膜。真空泵：30m3/H 飞越油泵，含泵前段返油过滤器，泵后端油雾过滤器 ；反应腔抽真空时间:10S；腔体衬板：提高腔体使用寿命，便于维护清洗，减少particle脱落。需配备一体式工控机，屏幕尺寸大于10英寸，带触摸功能；软件功能：配备行业标准多个GUI界面，用于自动和手动操作，系统监视器，报警和配方编辑，工艺菜单编辑功能，简易工步预设格式，多工艺菜单存储等功能。 |
| 售后服务 | 商品承诺:原厂全新未拆封正品;商品承诺:送货上门/安装调试/技术培训; |
** 15:16:01
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