| 项目名称 | 原子层沉积系统 | 项目编号 | JJ********查看详情 |
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| 公告开始日期 | 167*****14000 | 公告截止日期 | 167*****00000 |
| 采购单位 | 重庆大学 | 付款方式 | 预付款40%，尾款到货验收合格后支付 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 无 | 到货时间要求 | 合同签订180个工作日内 |
| 预 算 | 无 | ||
| 收货地址 | 重庆大学 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 中国采招网（bidcenter.com .cn,） | ||
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 原子层沉积系统 | 1 | 台 | 其他电工、电子专用生产设备 |
| 品牌 | 嘉兴科民电子 |
|---|---|
| 型号 | TALD-150D |
| 品牌2 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 品牌3 | 无 |
| 型号 | 无 |
| 预算 | 无 |
| 技术参数及配置要求 | 一、设备配置要求1.反应腔室一套，含1个外腔和2个内腔2.液态前驱体源系统4路3.臭氧前驱体源1路4.真空系统1套5.沉积自动控制系统1套二、设备配置及参数要求*1.反应腔室结构：独立的内外嵌套双腔结构，内腔安装在外腔内；*2.外腔：真空加热腔，对整个内腔进行加热，外层设置有水冷循环装置；内侧设有多层热反射装置；*3.内腔：可拆卸内反应腔，负责工艺执行。配有2套，可整个取下更换。压差自压合机构可使内腔腔盖与内腔腔体自动压合密封；4.内腔最大可放置直径6英寸晶圆，向下兼容；*5.反应温度：最高500℃，温度控制精度±1℃；6.加热液态前驱体源3路，配置swagelok高温快速ALD阀（响应时间＜10ms）、手动阀、50ml不锈钢源瓶，源瓶及管路加热温度RT-200℃，控制精度±1℃；7.常温源1路，配置swagelok快速ALD阀（响应时间＜10ms）、手动阀、50ml不锈钢源瓶；8. 臭氧前驱体源1路，内置氧气源水冷式臭氧发生器系统，臭氧产量 10g/h，浓度 100mg/L9. 两路载气系统，全套swagelok管路+VCR密封，前驱体源管路具有在线清洗功能；10.真空系统整机极限真空＜5E-3Torr，真空漏率＜5E-7 Pa·L/S;*11.配置进口机械泵，额定抽速＞25 m3/h；真空泵前级配置热阱，加热温度最高500℃，控制精度±1℃；12.进口压力传感器包含一个工艺薄膜规和一套全量程真空规；真空计前设有保护真空计的高效过滤网以及气动隔膜阀；13.控制系统采用PLC+工控机，具有可视化的操作界面，实时显示系统各部分运行状态，可方便的调节温度、流量、脉冲时间等参数，编辑并保存配方参数；多用户权限分配，软硬件互锁，异常报警、紧急停机等功能确保安全性；沉积模式：连续模式、停流模式；人机界面：外挂式触摸屏，可自由选择悬停位置；14.配置冷却循环水机一台15.工艺性能要求1：在 6 英寸硅晶圆上以厂家提供的工艺配方沉积 300 循环氧化铝，以晶圆上至少9个均匀分散点进行膜厚测试，膜厚非均匀性≤±1%为合格；16.工艺性能要求2：在 6英寸硅晶圆上以厂家提供的工艺配方沉积 300 循环氧化锡，以晶圆上至少9个均匀分散点进行膜厚测试，膜厚非均匀性≤±1%为合格；三、售后服务要求1、以上设备的交货期为合同签订之日起6个月；2、设备质保期：1年，从验收合格之日起计算质保期；3、售后服务响应要求：接到报修后，2小时内响应，24小时内可上门服务，一般问题应该在48小时内排除； |
| 售后服务 | 电话支持:7x8小时;质保期限:1年;响应时间:2小时;发票类型:增值税专用发票;质保金:无; |
报价地址：https://www.yuncaitong.cn/publish/2023/02/21/20LEDLY15CEK0XC4.shtml
