反射式显微膜厚测量仪（XF-WSBX-*******查看详情）采购公告
| 项目名称 | 反射式显微膜厚测量仪 | 项目编号 | XF-WSBX-*******查看详情 |
|---|---|---|---|
| 公告开始日期 | 2023-08-28 16:08:07 | 公告截止日期 | 2023-09-04 18:00:00 |
| 采购单位 | 浙江大学 | 付款方式 | 货到付款，甲方在到货验收后15日内向乙方一次性支付本项目的总额 |
| 联系人 | 中标后在我参与的项目中查看 | 联系电话 | 中标后在我参与的项目中查看 |
| 签约时间要求 | 成交后15个工作日内 | 到货时间要求 | 成交后30个工作日内 |
| 预算总价 | ￥350,000.00 | ||
| 收货地址 | 浙江省杭州市浙江大学紫金港校区东五楼光及电磁波研究中心 超净室 | ||
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
采购清单1
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
|---|---|---|---|
| 反射式显微膜厚测量仪 | 1 | 台 | 光电测量仪器 |
| 品牌 | Filmetrics |
|---|---|
| 型号 | F40-UV |
| 预算单价 | ￥350,000.00 |
| 技术参数及配置要求 | 1、设备品牌：Filmetrics 设备型号：F40-UV 2、主要用途： 采用无损非接触式光学测量，测量薄膜厚度，辅助测量其光学常数（n和k值）；测量分析纳米级薄膜膜层情况，改进镀膜工艺，监测膜层质量。 3、配置清单： 3.1、膜厚测量仪主体,中国采招网（bid center.com.cn） 3.2、15×紫外可见红外反射式镜头 3.3、UVX全波长显微镜（SS-Microscope-UVX-1） 4、详细技术要求： 4.1、仪器类别：反射式光谱测量（90°角） 4.2、测量氧化硅厚度测量范围：4nm-30um 4.3、测量n和k值最小厚度要求：50nm 4.4、＊波长范围：190-1100nm 4.5、光纤通光波长：190-2200nm 4.6、准确度（较大者）：1nm或0.2%（针对附带氧化硅厚度标准片） 4.7、精度：0.02nm（针对附带氧化硅厚度标准片） 4.8、稳定性：0.05nm（针对附带氧化硅厚度标准片） 4.9、＊标准厚度片：配置厚度约*****查看详情A的氧化硅厚度标准片，带聚焦和硅反射率参考测试区域。 4.10、镜头：配置15X紫外可见红外均透的反射式镜头。 4.11、＊光斑尺寸：17um 4.12、光源及寿命:外置氘灯（2000小时）和钨卤灯（1200小时） 4.13、离线分析软件：可授权离线分析模拟软件（不需要连接主机） 4.14、＊厚度拟合算法：至少拥有Exact，Robust和FFT三种厚度拟合算法 4.15、色坐标测量:可实现光谱CIE-L*a*b* 色坐标测量 4.16、文件导出格式:CSV,fibhi,mls 4.17、材料库：拥有不小于100种不同材料的数据库，可自由导入新材料文件。 4.18、原始信号：可实时显示光强原始信息，用于信号聚焦。 4.19、反射率模拟：可进行不同镀膜材料的建模，模拟镀膜膜系的反射率曲线。 |
| 售后服务 | 电话支持:7x24小时;质保期:1年;服务时限:报修后24小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品; |
浙江大学
2023-08-28 16:08:07
