蚀清洗机招标项目的潜在投标人应在（本公告附件中）获取招标文件，并于2024年4月8日14:00（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况： 1.项目编号：SZDL2024000415 2.项目名称：湿法刻蚀清洗机 3.预算金额（单位：元）：1,950,000.00 4.最高限价（如有）：1,9 查看详情>>
蚀机的潜在投标人应在（本公告附件中）获取招标文件，并于2024年4月15日15：00（北京时间）前网上递交投标文件。 一、项目基本情况 （一）项目编号：SZDL2024000434（CLF0124SZ00ZC41） （二）项目名称：反应离子刻蚀机 （三）预算金额：人民币206.00万元 （四）最高限 查看详情>>
项目名称：反应离子刻蚀机招标公告二、项目编号：CLF0124SZ00ZC41三、采购方式：公开招标四、预算金额：以采购文件约定为准五、发布媒体：广东采联采购,深圳政府采购智慧平台,,详细信息请前往登陆报名系统查看 https://www.chinapsp.cn/notice_content.html 查看详情>>
1/442 干法刻蚀机 2腔 设备用途及基本要求本系统主要用于G6玻璃面板的柔性AMOLED干法刻蚀工艺，干法刻蚀机的主要系统应包括工艺腔室、真空系统、压力计、射频发生器、气体质量流量控制器、冷却系统、电极、搬送系统和软件系统等。要求该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品质 查看详情>>
1/442 干法刻蚀机 2腔 设备用途及基本要求本系统主要用于G6玻璃面板的柔性AMOLED干法刻蚀工艺，干法刻蚀机的主要系统应包括工艺腔室、真空系统、压力计、射频发生器、气体质量流量控制器、冷却系统、电极、搬送系统和软件系统等。要求该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品质 查看详情>>
1/442 干法刻蚀机 2腔 设备用途及基本要求 本系统主要用于G6玻璃面板的柔性AMOLED干法刻蚀工艺，干法刻蚀机的主要系统应包括工艺腔室、真空系统、压力计、射频发生器、气体质量流量控制器、冷却系统、电极、搬送系统和软件系统等。要求该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品 查看详情>>
蚀清洗机招标项目的潜在投标人应在（本公告附件中）获取招标文件，并于2024年4月8日14:00（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况： 1.项目编号：SZDL2024000415 2.项目名称：湿法刻蚀清洗机 3.预算金额（单位：元）：1,950,000.00 4.最高限价（如有）：1,9 查看详情>>
1/442 干法刻蚀机 2腔 设备用途及基本要求本系统主要用于G6玻璃面板的柔性AMOLED干法刻蚀工艺，干法刻蚀机的主要系统应包括工艺腔室、真空系统、压力计、射频发生器、气体质量流量控制器、冷却系统、电极、搬送系统和软件系统等。要求该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品质 查看详情>>
1/442 干法刻蚀机 2腔 设备用途及基本要求本系统主要用于G6玻璃面板的柔性AMOLED干法刻蚀工艺，干法刻蚀机的主要系统应包括工艺腔室、真空系统、压力计、射频发生器、气体质量流量控制器、冷却系统、电极、搬送系统和软件系统等。要求该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品质 查看详情>>
项目概况 反应离子刻蚀机的潜在投标人应在（本公告附件中）获取招标文件，并于2024年4月15日15：00（北京时间）前网上递交投标文件。 一、项目基本情况 （一）项目编号：SZDL2024000434（CLF0124SZ00ZC41） （二）项目名称：反应离子刻蚀机 （三）预算金额：人民币206.0 查看详情>>
1/442 干法刻蚀机 2腔 设备用途及基本要求 本系统主要用于G6玻璃面板的柔性AMOLED干法刻蚀工艺，干法刻蚀机的主要系统应包括工艺腔室、真空系统、压力计、射频发生器、气体质量流量控制器、冷却系统、电极、搬送系统和软件系统等。要求该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品 查看详情>>
1/442 干法刻蚀机 2腔 设备用途及基本要求 本系统主要用于G6玻璃面板的柔性AMOLED干法刻蚀工艺，干法刻蚀机的主要系统应包括工艺腔室、真空系统、压力计、射频发生器、气体质量流量控制器、冷却系统、电极、搬送系统和软件系统等。要求该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品 查看详情>>
1/442 干法刻蚀机 2腔 设备用途及基本要求 本系统主要用于G6玻璃面板的柔性AMOLED干法刻蚀工艺，干法刻蚀机的主要系统应包括工艺腔室、真空系统、压力计、射频发生器、气体质量流量控制器、冷却系统、电极、搬送系统和软件系统等。要求该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品 查看详情>>
项目概况 反应离子刻蚀机的潜在投标人应在（本公告附件中）获取招标文件，并于2024年4月15日15：00（北京时间）前网上递交投标文件。 一、项目基本情况 （一）项目编号：SZDL2024000434（CLF0124SZ00ZC41） （二）项目名称：反应离子刻蚀机 （三）预算金额：人民币206.0 查看详情>>
1/442 干法刻蚀机 2腔 设备用途及基本要求本系统主要用于G6玻璃面板的柔性AMOLED干法刻蚀工艺，干法刻蚀机的主要系统应包括工艺腔室、真空系统、压力计、射频发生器、气体质量流量控制器、冷却系统、电极、搬送系统和软件系统等。要求该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品质 查看详情>>
蚀清洗机招标项目的潜在投标人应在（本公告附件中）获取招标文件，并于2024年4月8日14:00（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况： 1.项目编号：SZDL2024000415 2.项目名称：湿法刻蚀清洗机 3.预算金额（单位：元）：1,950,000.00 4.最高限价（如有）：1,9 查看详情>>
蚀机的潜在投标人应在（本公告附件中）获取招标文件，并于2024年4月15日15：00（北京时间）前网上递交投标文件。 一、项目基本情况 （一）项目编号：SZDL2024000434（CLF0124SZ00ZC41） （二）项目名称：反应离子刻蚀机 （三）预算金额：人民币206.00万元 （四）最高限 查看详情>>
1/442 干法刻蚀机 2腔 设备用途及基本要求 本系统主要用于G6玻璃面板的柔性AMOLED干法刻蚀工艺，干法刻蚀机的主要系统应包括工艺腔室、真空系统、压力计、射频发生器、气体质量流量控制器、冷却系统、电极、搬送系统和软件系统等。要求该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品 查看详情>>
蚀清洗机招标项目的潜在投标人应在（本公告附件中）获取招标文件，并于2024年4月8日14:00（北京时间）前递交投标文件。 一、项目基本情况： 1.项目编号：SZDL2024000415 2.项目名称：湿法刻蚀清洗机 3.预算金额（单位：元）：1,950,000.00 4.最高限价（如有）：1,9 查看详情>>
路设计，保证清洗，刻蚀均匀性;2 路气体，支持氧气，氩气，氮气，氢气等1.4真空泵16m3/H，极限真空度1PA1.5放电电极高导电铝合金专用电极，CCP & RIE 离子反应放电模式1.6控制系统三菱 PLC 模块；1.7真空测量皮拉尼真空硅管 测量范围：1.0×10 5 ～1×10 -1 查看详情>>
74 浅沟槽等离子刻蚀设备 1 要求设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品质，在操作过程中操作者的视线要好。所选控制系统执行组件精度高，可靠性好，响应速度快。设备使用、操作、维修方便，造型美观，结构紧凑，整机运行稳定可靠，售后服务优良。3、投标人资格要求投标人应具备的资格或业绩 查看详情>>
X3/146 干法刻蚀机（制程腔室） 5腔室 设备要求：该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品质，在操作过程中操作者的视线要好。所选控制系统执行组件精度高，可靠性好，响应速度快。设备使用、操作、维修方便，造型美观，结构紧凑，整机运行稳定可靠，售后服务优良。RMB20000/U 查看详情>>
74 浅沟槽等离子刻蚀设备 1 要求设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品质，在操作过程中操作者的视线要好。所选控制系统执行组件精度高，可靠性好，响应速度快。设备使用、操作、维修方便，造型美观，结构紧凑，整机运行稳定可靠，售后服务优良。 3、投标人资格要求投标人应具备的资 查看详情>>
X3/146 干法刻蚀机（制程腔室） 5腔室 设备要求：该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品质，在操作过程中操作者的视线要好。所选控制系统执行组件精度高，可靠性好，响应速度快。设备使用、操作、维修方便，造型美观，结构紧凑，整机运行稳定可靠，售后服务优良。 RMB20000/ 查看详情>>
00μm以上（3）刻蚀速率：500μm以上（4）样品最大尺寸：11mm×10mm×2mm（5）样品移动范围：X轴±6mm，Y轴±2.5mm（6）离子化用气体：氩气（7）真空系统：涡轮分子泵，机械泵9000002024年05月63电解抛光设备利用电化学原理进行金相样品的制备。该设备既可用于金相试样的抛 查看详情>>
001/145 刻蚀终点检测仪 16台 设备用途及基本要求 要求该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高，可靠性好，响应速度快。设备使用、操作、维修方便，造型美观，结构紧凑，整机运行稳定可靠，售后服务优良。 CNY1500/USD250 3、 查看详情>>
001/145 刻蚀终点检测仪 16台 设备用途及基本要求要求该设备结构设计合理，采用先进成熟技术，保证系统具有良好的动态品质。所选控制系统执行元件精度高，可靠性好，响应速度快。设备使用、操作、维修方便，造型美观，结构紧凑，整机运行稳定可靠，售后服务优良。CNY1500/USD2503、投标人资格 查看详情>>
蚀机 - 国际招标公告上海国际招标有限公司受招标人委托对下列产品及服务进行国际公开竞争性招标，于2024-03-26在中国国际招标网公告。本次招标采用传统招标方式，现邀请合格投标人参加投标。1、招标条件项目概况：离子束刻蚀机资金到位或资金来源落实情况：资金已落实项目已具备招标条件的说明：已具备招标条 查看详情>>
名称：等离子体金属刻蚀机采购 三、采购结果 合同包1(等离子体金属刻蚀机采购): 供应商名称 供应商地址 中标（成交）金额 北京北方华创微电子装备有限公司 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 7,500,000.00元 四、主要标的信息 合同包1(等离子体金属刻 查看详情>>
件项目概况:离子束刻蚀机资金到位或资金来源落实情况:资金已落实项目已具备招标条件的说明:已具备招标条件2、招标内容招标项目编号:0705-244316088001招标项目名称:离子束刻蚀机项目实施地点:中国江苏省招标产品列表(主要设备): 序号 产品名称 数量 简要技术规格 备注 1 离子束刻 查看详情>>
、合同名称： 深硅刻蚀机+金属干法刻蚀机 三、项目编号： JLU-WT23123 四、项目名称： 深硅刻蚀机+金属干法刻蚀机 五、合同主体 采购人（甲方）： 吉林大学 地 址： 长春市前进大街 2699 号 联系方式：0431-85167306 供应商（乙方）：长春联创世纪科技发展 有限公司 查看详情>>
件项目概况:离子束刻蚀机资金到位或资金来源落实情况:资金已落实项目已具备招标条件的说明:已具备招标条件2、招标内容招标项目编号:0705-244316088001招标项目名称:离子束刻蚀机项目实施地点:中国江苏省招标产品列表(主要设备):3、投标人资格要求投标人应具备的资格或业绩:1） 投标人应为符 查看详情>>
件项目概况:离子束刻蚀机资金到位或资金来源落实情况:资金已落实项目已具备招标条件的说明:已具备招标条件2、招标内容招标项目编号:0705-244316088001招标项目名称:离子束刻蚀机项目实施地点:中国江苏省招标产品列表(主要设备):序号 产品名称 数量 简要技术规格备注1 离子束刻蚀机 1台 查看详情>>
1项目名称：离子束刻蚀机项目名称(英文)：ICB of Ion beam etching machine for Nano Polis招标人：苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司招标机构：上海国际招标有限公司招标机构代码：0705招标方式：公开招标投标报价方式：线下投标招标结果：重新招标 ,上海, 查看详情>>
蚀系统 项目所在采购意向： 中国科学院上海微系统与信息技术研究所2024年4月政府采购意向 采购单位： 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 采购项目名称： 高导热结构集成刻蚀系统 预算金额： 200.000000万元(人民币) 采购品目： A032103 采购需求概况： 科 查看详情>>
1项目名称：离子束刻蚀机项目名称(英文)：ICB of Ion beam etching machine for Nano Polis招标人：苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司招标机构：上海国际招标有限公司招标机构代码：0705招标方式：公开招标投标报价方式：线下投标招标结果：重新招标,江苏 查看详情>>
精度异质材料等离子刻蚀系统 项目所在采购意向： 中国科学院上海微系统与信息技术研究所2024年4月政府采购意向 采购单位： 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 采购项目名称： 高精度异质材料等离子刻蚀系统 预算金额： 200.000000万元(人民币) 采购品目： A03210 查看详情>>
蚀系统 项目所在采购意向： 北京大学2024年5月政府采购意向 采购单位： 北京大学 采购项目名称： 原子层刻蚀系统 预算金额： 400.000000万元(人民币) 采购品目： A02330300电子工业生产设备 采购需求概况： 碳基栅叠层项目是为推动碳基芯片的发展而设立，针 查看详情>>
大尺寸晶圆干法深硅刻蚀机 项目所在采购意向： 中国科学院上海微系统与信息技术研究所2024年4月政府采购意向 采购单位： 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 采购项目名称： 大尺寸晶圆干法深硅刻蚀机 预算金额： 200.000000万元(人民币) 采购品目： A032103 查看详情>>
蚀机项目所在采购意向：中国科学技术大学2024年4月政府采购意向采购单位：中国科学技术大学采购项目名称：介质感应耦合等离子刻蚀机预算金额：380.000000万元(人民币)采购品目：A02109900其他仪器仪表采购需求概况 ：介质感应耦合等离子刻蚀机是微纳器件、半导体芯片、光子芯片、微流控芯片制造 查看详情>>
