0x200 3、*射频电源功率：500W 4、*射频频率：13.56MHz 5、频率偏移量：小于0.2KHz 6、等离子体轰击：从上往下 7、*腔体内温度：＜45℃ @180秒 8、清洗时间：0- 1200S 可调 9、*功率调节：连续可调 10、显示屏：4.3英寸触摸屏 11、*操作控制：提供中英 查看详情>>
A(不含真空泵)*射频电源功率： 0-300W*射频频率： 40KHz （偏移量小于0.2KHz）*频率偏移量： 小于0.2KHz*特性阻抗： 50欧姆，自动匹配*真空度： 10Pa—1000Pa*气体流量： 10—160ml/min(可调)*过程控制： MCU自动与手动方式清洗时间： 1-9999 查看详情>>
(不含真空泵) *射频电源功率： 0-300W *射频频率： 40KHz （偏移量小于0.2KHz） *频率偏移量： 小于0.2KHz *特性阻抗： 50欧姆，自动匹配 *真空度： 10Pa—1000Pa *气体流量： 10—160ml/min(可调) *过程控制： MCU自动与手动方式 清洗时间： 查看详情>>
不含真空泵) 4、射频电源功率：0-300可调 5、射频频率：40KHZ（偏移量小于0.2KHz） 6、频率偏移量：小于0.2KHz 7、特性阻抗：50欧姆，自动匹配 8、真空度：1pa-10Pa 9、气体路数：贰路气体输入 10、气体流量：16—160ml/min(可调) 11、过程控制：PLC人 查看详情>>
