电化学显微镜系统、扫描开尔文探针系统 、机械式高温持久蠕变试验机、50KN微机控制高温电子万能试验机采购项目（HW2022055）自行采购邀请书时间：2022-12-16来源：作者：摄影： 编辑：黄慧上传：南京工业大学货物自行采购邀请书欢迎供应商参与我校货物（指仪器设备、软件、家具）自行采购项目，请 查看详情>>
电化学显微镜系统、扫描开尔文探针系统 、机械式高温持久蠕变试验机、50KN微机控制高温电子万能试验机三、采购方式：集体谈判四、采购内容（一）货物名称、数量、预算分包号货物名称数量预算（万元）备注一扫描电化学显微镜系统139.8允许进口二扫描开尔文探针系统127允许进口三机械式高温持久蠕变试验机348 查看详情>>
镜；静电力显微镜；扫描开尔文显微镜；力曲线模式；纳米刻蚀；纳米操纵；3密闭式电化学液池密闭式电化学液池模块：能够构造密闭的电化学溶液环境进行表面形貌以及双电子层等测试。4压电力显微镜模式★压电力显微镜模式：系统具有DART-PFM模式和Switching spectroscopy PFM模式。最高测 查看详情>>
FM)3.1.10扫描开尔文显微镜(Kelvin probe force microscopy,含AM-KPFM和FM-KPFM)3.1.11扫描电容显微镜(Scanning Capacitance Microscopy, SCM)3.1.12力曲线测试（Force curve）3.1.13力阵列测 查看详情>>
FM)3.1.10扫描开尔文显微镜(Kelvin probe force microscopy,含AM-KPFM和FM-KPFM)3.1.11扫描电容显微镜(Scanning Capacitance Microscopy, SCM)3.1.12力曲线测试（Force curve）3.1.13力阵列测 查看详情>>
FM)3.1.10扫描开尔文显微镜(Kelvin probe force microscopy,含AM-KPFM和FM-KPFM)3.1.11扫描电容显微镜(Scanning Capacitance Microscopy, SCM)3.1.12力曲线测试（Force curve）3.1.13力阵列测 查看详情>>
EFM)；1.10扫描开尔文显微镜(Kelvin probe force microscopy)；1.11力曲线模式（Force curve）；1.12力阵列测量(Force Volume Measurement)；1.13纳米刻蚀(Nanolithography)；1.14纳米操纵(Nanoman 查看详情>>
FM) ；1.10扫描开尔文显微镜(Kelvin probe force microscopy) ；1.11力曲线模式（Force curve）；1.12力阵列测量(Force Volume Measurement) ；1.13纳米刻蚀(Nanolithography)；1.14纳米操纵(Nanom 查看详情>>
镜,静电力显微镜,扫描开尔文显微镜，力曲线模式，力阵列测量，纳米刻蚀，纳米操纵，高次谐波成像模式，双频共振追踪模式。2.扫描器*2.1 X,Y方向的扫描范围不低于30μm，Z方向不低于5μm；扫描器闭环噪音：X,Y轴闭环噪音<60pm（Adev,1Hz到1KHz带宽），能够在利用闭环扫描轴实现 查看详情>>
镜,静电力显微镜,扫描开尔文显微镜，力曲线模式，力阵列测量，纳米刻蚀，纳米操纵，高次谐波成像模式，双频共振追踪模式。2.扫描器*2.1 X,Y方向的扫描范围不低于30μm，Z方向不低于5μm；扫描器闭环噪音：X,Y轴闭环噪音<60pm（Adev,1Hz到1KHz带宽），能够在利用闭环扫描轴实现 查看详情>>
扫描电容成像/ 扫描开尔文探针显微镜/ 扩展电阻成像/ 压电响应力显微镜/扫描隧道显微镜/扫描隧道谱；
2、液体模式成像功能需包括：接触式AFM/ 侧向力模式/ 振动模式(接触+非接触模式AFM)/ 相位成像模式/ 力调制模式(粘弹性)/ 粘附力成像/AFM 刻蚀-力/电化学原子力显微镜 查看详情>>
M) 1.10 扫描开尔文显微镜(Kelvin probe force microscopy) 1.11 力曲线模式（Force curve） 1.12 力阵列测量(Force Volume Measurement) 1.13 纳米刻蚀(Nanolithography) 1.14 纳米 查看详情>>
EFM)1.10 扫描开尔文显微镜(Kelvin probe force microscopy)1.11 力曲线模式（Force curve）1.12 力阵列测量(Force Volume Measurement)1.13 纳米刻蚀(Nanolithography)1.14 纳米操纵(Nanoman 查看详情>>
1.10 扫描开尔文显微镜(Kelvin probe force microscopy) 1.11 力曲线模式（Force curve） 1.12 力阵列测量(Force Volume Measurement) 1.13 纳米刻蚀(Nanolithography) 1.1 查看详情>>
M、静电力显微镜、扫描开尔文显微镜力曲线模式、力阵列测量、纳米刻蚀、纳米操纵、压电响应刻蚀、高次谐波成像模式、双频共振追踪、双频共振追踪压电力显微镜、MacroBuilder智能编程模式、GetReal智能探针校准模式。2、主要技术参数：（1）扫描器：①扫描器须是X,Y,Z三轴分离的扫描器，X,Y, 查看详情>>
M、静电力显微镜、扫描开尔文显微镜、力曲线模式、力阵列测量、快速PFM模式、STM扫描隧道显微镜、导电AFM模式（电流mapping）、纳米刻蚀、纳米操纵、压电响应刻蚀、高次谐波成像模式、双频共振追踪等。要求：不同测量模式的转换须具备便利性和可操作性，进行转换时不需要更换、添减系统硬件和软件。2、扫 查看详情>>
M、静电力显微镜、扫描开尔文显微镜、力曲线模式、力阵列测量、快速PFM模式、导电AFM模式、纳米刻蚀、纳米操纵、压电响应刻蚀、高次谐波成像模式、双频共振追踪等。要求：不同测量模式的转换须具备便利性和可操作性，进行转换时不需要更换、添减系统硬件和软件。（三）技术指标1、扫描器(1)适用于大、小量程的多 查看详情>>
、静电力显微镜、扫描开尔文显微镜、力曲线模式、力阵列测量、快速 PFM 模式、 STM 扫描隧道显微镜、导电 AFM 模式（电流 mapping ）、纳米刻蚀、纳米操纵、压电响应刻蚀、高次谐波成像模式、双频共振追踪等。要求：不同测量模式的转换须具备便利性和可操作性，进行转换时不需要更换、添减系统硬 查看详情>>
、静电力显微镜、扫描开尔文显微镜、力曲线模式、力阵列测量、快速 PFM 模式、导电 AFM 模式、纳米刻蚀、纳米操纵、压电响应刻蚀、高次谐波成像模式、双频共振追踪等。要求：不同测量模式的转换须具备便利性和可操作性，进行转换时不需要更换、添减系统硬件和软件。（三）技术指标1 、扫描器(1) 适用于大 查看详情>>
模式，磁力显微镜，扫描开尔文显微镜，扫描电容显微镜，静电力显微镜1. 2 STM工作模式：导电单元电流范围 100 fA~10 μA，电压范围-10 V~ 7 V2. 测量头*2.1独立反馈激光光路，反馈激光≥1300 nm，允许可见及近红外区域的拉曼，荧光或近场成像测量2.2可通过软件实现全自动针 查看详情>>
模式，磁力显微镜，扫描开尔文显微镜，扫描电容显微镜，静电力显微镜1. 2 STM工作模式：导电单元电流范围 100 fA~10 μA，电压范围-10 V~ 7 V2. 测量头*2.1独立反馈激光光路，反馈激光≥1300 nm，允许可见及近红外区域的拉曼，荧光或近场成像测量2.2可通过软件实现全自动针 查看详情>>
M、静电力显微镜、扫描开尔文显微镜、力曲线模式、力阵列测量、快速PFM模式、导电AFM模式、纳米刻蚀、纳米操纵、压电响应刻蚀、高次谐波成像模式、双频共振追踪等。要求：不同测量模式的转换须具备便利性和可操作性，进行转换时不需要更换、添减系统硬件和软件。（三）技术指标1、扫描器(1) 适用于大、小量程的 查看详情>>
模式，磁力显微镜，扫描开尔文显微镜，扫描电容显微镜，静电力显微镜1. 2 STM工作模式：导电单元电流范围 100 fA~10 μA，电压范围-10 V~ 7 V2. 测量头*2.1独立反馈激光光路，反馈激光≥1300 nm，允许可见及近红外区域的拉曼，荧光或近场成像测量2.2可通过软件实现全自动针 查看详情>>
