至少1个直流和1个射频电源，可以实现2个靶位的共溅射沉积。具有氩等离子体轰击，实现轻微刻蚀。本年度内到货并安装调试完毕。 预计采购时间： 2024-06 备注： 本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。 ,复旦大学 查看详情>>
能薄膜制备，直流加射频电源设计除了实现高质量金属、氧化物、氮化物等薄膜制备，多靶设计能够实现多金属及氧化物、碳化物等共溅射以及多级次膜层的原位制备，避免了开舱换靶带来的氧化和制备缺陷，超高真空条件下能够精确调控薄膜显微组织和界面结构，亦是活泼金属镁材料制备的有效保障。该系统设计搭载的自由控温组件可有 查看详情>>
F3，SF6；RF射频电源功率不小于300W；可容纳的样品尺寸不小于4英寸；刻蚀均匀性≤±5%；可以实现氧化硅、氮化硅、石墨烯、六方氮化硼等材料的刻蚀。预计采购时间：2023-02备注： 本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。,上海 查看详情>>
F3，SF6；RF射频电源功率不小于300W；可容纳的样品尺寸不小于4英寸；刻蚀均匀性≤±5%；可以实现氧化硅、氮化硅、石墨烯、六方氮化硼等材料的刻蚀。预计采购时间：2023-03备注： 本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。,上海 查看详情>>
兼容4英寸和破片；射频电源：ICP电源：13.56MHz，1500W; 偏压电源：13.56MHz，300W；工艺温度：10℃到30℃可控预计采购时间：2023-01备注： 本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。,上海 查看详情>>
BCl3等；(2)射频电源：(1)ICP电源13.56MHz, 1200W(2)偏压电源13.56MHz, 600W(3)工艺温度：-20℃到80℃可控；(4)最大晶圆尺寸：8 inch，且向下兼容；(5)均匀性：≤5%(6)刻蚀材料：金属薄膜（如铝、镍、铬、钛等）、多晶硅和Ⅲ-Ⅴ族化合物等。预计采 查看详情>>
BCl3等；(2)射频电源：(1)ICP电源13.56MHz, 1200W(2)偏压电源13.56MHz, 600W(3)工艺温度：-20℃到80℃可控；(4)最大晶圆尺寸：8 inch，且向下兼容；(5)均匀性：≤5%(6)刻蚀材料：金属薄膜（如铝、镍、铬、钛等）、多晶硅和Ⅲ-Ⅴ族化合物等。预计采 查看详情>>
暨南大学2022年7月政府采购意向-暨南大学先进耐磨蚀及功能材料研究院2022年高水平大学建设项目采购-1、精密摩擦磨损测试系统1台设备主要功能为实现温度条件下（最
招标预告 | 2022-05-24丨 上海
括.加热系统、PE射频电源、供气系统、低真空机组、液态/固态源蒸发器。要求服务包括1年质保周期（易损易耗件除外），该设备及部件，从签署现场验收合格之日起，如在1年之内出现故障，乙方在接到甲方通知后2小时内做出答复, 24小时内派出的售后服务人员到现场维修，1年后，甲方可通过代理机构或直接向乙方购买备 查看详情>>
国AE品牌600W射频电源，自动匹配网络；（7） 配备预真空室（load-lock），采用抽速不小于100L/S的分子泵机组（包括英国爱德华涡旋干泵）；（8） 主腔室配备德国Pfeiffer涡轮分子泵+爱德华涡旋干泵系统，带控制器，所有线路电缆；（9） 真空系统具有真空度自动控制功能，极限真空度可达 查看详情>>
备不小于600W的射频电源和不小于500W的直流电源7、样品台最大加热温度不低于300度，支持样品台旋转。售后服务：2年免费保修，电话报修后24小时内给出解决方案。预计采购时间：2021-04备注： 本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。 查看详情>>
