干法刻蚀设备项目所在采购意向：浙江大学2022年12月政府采购意向采购单位：浙江大学采购项目名称：干 查看详情>>
的13.56MHz射频电源；反应压力从500mTorr～3Torr可控；3）热台衬底加热温度从100度到350度可调；4）在8英寸（200mm直径) 衬底内，沉积氮化硅和氧化硅薄膜片内均匀性<3%, 每次沉积之间的均匀性<3%；薄膜633nm折射率从1.465~3.00可调，薄膜应力从压 查看详情>>
保护; *600W射频电源1套,13.56MHZ,自动匹配。500W直流电源1套,可实现2只靶同时共溅射功能。提供安装、培训、调试、验收、质保期保障等全套服务预计采购时间：2022-11备注： 本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。,浙江 查看详情>>
