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“辽宁原子层”招标预告信息

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   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-11-16丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-11-14丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-10-20丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-10-11丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-09-27丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-09-22丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-09-19丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-09-18丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-09-14丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-09-12丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-09-07丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-09-04丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-08-22丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-08-14丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-08-11丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-08-03丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-08-01丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-07-31丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-07-18丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-06-30丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-06-28丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-06-12丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-06-05丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-05-15丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-05-11丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-05-05丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-05-04丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-04-29丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-04-28丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-04-27丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-04-19丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-04-15丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-04-13丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-04-12丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-04-11丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   辽宁材料实验室采购意向

招标预告 | 2023-04-07丨 辽宁

23年4月7日48原子层沉积系统本次拟采购的原子层沉积系统主要用于硅片及Pattern上制备氧化铪,氧化钛,铪锆氧掺杂等High-K介质薄膜,并采用先进的掺杂工艺用于High-K介电薄膜的研究,低温生长工艺用于存储芯片解剖和性能分析研究及未来SAMs自组装单分子层的薄膜沉积生长,用于存储器封装技术的 查看详情>>
   渤海大学-采购意向

招标预告 | 2022-12-28丨 辽宁

实现材料的表面几个原子层(1~10纳米厚的表面)的化学组成、价态,深度剖析及成像等综合分析与表征技术的研究。67011月2022年10月27日33渤海大学公共实验教学平台设备采购项目主要采购化学及相关专业实验设备,以满足化学类各专业实验的教学需求。实验设备要满足各项性能指标参数。采购标的需满足质量、 查看详情>>
子层级刻蚀机项目所在采购意向:大连理工大学2022年11至12月政府采购意向采购单位:大连理工大学采购项目名称:高精度原子层级刻蚀机预算金额:411.000000万元(人民币)采购品目:A032103电子工业专用生产设备采购需求概况:项目采购标的主要由原子层级刻蚀机设备主体、薄膜监测配件以及配套气路 查看详情>>
子层沉积设备项目所在采购意向:大连理工大学2022年11月政府采购意向采购单位:大连理工大学采购项目名称:原子层沉积设备预算金额:270.000000万元(人民币)采购品目:A02062002电气物理设备采购需求概况:原子层沉积设备,1台,拟采该设备用于二维纳米材料的微纳器件以及光电子器件等前沿课题 查看详情>>
制备设备,1 套。原子层沉积模块:外热式反应腔体、反应温度 50-200°C、样品尺寸大于 8 英寸、4 路前驱体源。真空热蒸镀模块:有效蒸镀面积≥220mm*220mm、镀膜不均匀性≤±5%、双蒸发电源、双探头。磁控溅射模块:有效溅射面积≥220mm*220mm、直流+射频双电源、带角度调节Φ6  查看详情>>
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